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半自动快速退火炉
发布时间:2023-11-01        浏览次数:21        返回列表
半自动快速退火炉

快速退火炉

快速退火炉工艺用途: 

离子注入后快速退火; 

 欧姆接触快速合金;硅化物合金退火; 

 氧化物生长; • 其它快速热处理工艺。

 同一般管式高温炉的比较:  一般管式高温炉只能设定一个工艺条件(即一个温度条件);工艺周期长,使用不够灵活;须24小时加电恒温,能耗较高,不适用于生产。

半自动快速退火炉可以设定多个工艺条件(即多种温度条件);工艺时间短,使用非常灵活;能耗低;

同一台设备既可用于生产,也可用作科研,且任何科研工艺条件不会对生产工艺造成影响。

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